化学気相成長グラフェン <CVD Graphene>

 APPLICATIONS
● グラフェンエレクトロニクス ● 導電性コーティング ● 航空宇宙産業
● MEMS及びNEMS ● 化学/バイオセンサー ● 金属触媒の支持
● マイクロアクチュエイター ● グラフェン多機能材料


ニッケル箔上多層グラフェン
↑ クリックすると画像が現れます。


ニッケル箔上多層グラフェン

 グラフェンフィルムはニッケル箔上で成長し、ニッケル表面ステップおよび粒界にわたり連続的です。グラフェンフィルムは均一ではなく、継ぎはぎ状になっており、パッチ毎に厚みが違います。
(パッチサイズ約3-10um)

グラフェン膜厚: 300単分子層 (105nm)
ニッケル箔厚: 25um サイズ: 50×50mm

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-3450×50mm155,000



銅箔上単層グラフェン


銅箔上単層グラフェン

 グラフェンフィルムは銅箔(両面)上で成長し、銅箔表面ステップおよび粒界にわたり連続的です。銅箔のエッチングにより、ガラス、酸化シリコン又はプラスチックフィルム等他の基板にグラフェン膜を移すことができます。

銅箔厚: 20um
サイズ: 50×50mm 及び 100×100mm

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-3550×50mm165,000
G-35M50×100mm106,000
G-35L100×100mm190,000



ニッケル上グラフェン
↑ クリックすると画像が現れます。


ニッケル上グラフェン

グラフェン膜厚: 1~7分子層 (平均4分子層)
ニッケル膜厚: 400nm
基板: Ni/SiO2/Siウェハー(0.5mm厚)
結晶方位 (100)
サイズ: 10×10mm

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-3610×10mm2050,000



PET上単層グラフェン


PET上単層グラフェン

CVD処理によって成長した銅箔上の単層グラフェンフィルムをPET (Polyethylene terephthalate) 上に転写。

グラフェン被膜率: 約95%
PET基板厚: 175um
シート抵抗: 660-1500Ω

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-3725×25mm144,000
G-37M596,000
G-37L50×50mm1

ガラス基板上単層グラフェン




ガラス基板上単層グラフェン

<特性>
 グラフェンフィルムの厚さ及び品質はラマン分光法によって制御されます。グラフェン被覆範囲約95%。グラフェンフィルムは連続的ですが、所々穴および亀裂があります。グラフェンフィルムは異なる結晶方位を備えた粒子から成る多結晶です。ガラス基板の仕様はこちらをご参照ください。

ガラス基板厚: 700um 基板密度: 2.38g/cc
グラフェン電気抵抗: 660-1500Ω
グラフェンフィルム透過率: 97%以上

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-38-225×25mm144,000
G-38-2M596,000
G-38-2L50×50mm1

石英基板上単層グラフェン
↑ クリックすると画像が現れます。




石英基板上単層グラフェン

基板密度: 2.21g/cm3
グラフェン被膜率: 95%
グラフェン電気抵抗: 660-1500Ω
グラフェンフィルム透過率: 97%以上
ヌープ硬度: >600kg/mm2

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-38-325×25mm148,000
G-38-3M5102,000



グラフェン転写キット



グラフェン転写キット

<キット内容>
転写テープ (200×200mm) ×2枚
銅箔上単層グラフェン (50×50mm) ×1枚
ニッケル上グラフェン (10×10mm) ×20枚
製品説明 ⇒G-39

Cat No.価格(¥)
G-3992,000


グラフェンフィルムトライアルキット




グラフェンフィルム トライアルキット

<キット内容>
SiO2上単層/2分子層グラフェン ×2枚
(10×10mm, 酸化膜厚285nm, Si基板厚525um)
ニッケル上グラフェン (10×10mm) ×2枚
SiO2上多層グラフェン (10×10mm) ×1枚
SiO2上単層グラフェン (10×10mm) ×1枚
ガラス基板上単層グラフェン (25×25mm) ×1枚

Cat No.価格(¥)
G-4054,000

SiO<sub>2</sub>ウェハー上単層グラフェン
↑ クリックすると画像が現れます。




SiO2上<単層>グラフェン(10×10mm)

<特性>
 グラフェンフィルムの厚さ及び品質はラマン分光法によって制御されます。グラフェン被覆範囲約95%。グラフェンフィルムは連続的ですが、所々穴および亀裂があります。グラフェンフィルムは異なる結晶方位を備えた粒子から成る多結晶です。

Si基板サイズ: 10×10mm 525um(thick)
酸化膜厚: 285nm(G-42)/90nm(G-43)
グラフェン電気抵抗: 660-1500Ω
基板電気抵抗: 0.001-0.005 ohm-cm
キャリア移動度: 49.31-60.75 cm2/Vs
タイプ/ドーパント: P型/ボロン
表面/裏面: ポリッシュ/エッチング

Cat No.酸化膜厚枚数価格(¥)
G-42-5285nm576,000
G-43-590nm

SiO<sub>2</sub>ウェハー上多層グラフェン




SiO2上<多層>グラフェン(10×10mm)

Si基板サイズ: 10×10mm 525um(thick)
酸化膜厚: 285nm
グラフェン膜厚: 1~7分子層 (平均4分子層)
グラフェン電気抵抗: 500-1500Ω
基板電気抵抗: 0.001-0.005 ohm-cm
タイプ/ドーパント: P型/ボロン
表面/裏面: ポリッシュ/エッチング

Cat No.枚数価格(¥)
G-44-5565,000
G-44-1010107,000

SiO<sub>2</sub>ウェハー上単層/2分子層グラフェン
↑ クリックすると画像が現れます。




SiO2上<単層/2分子層>グラフェン

Si基板サイズ: 10×10mm 525um(thick)
酸化膜厚: 285nm(G-45)/90nm(G-46)
グラフェン電気抵抗: 500-1500Ω
基板電気抵抗: 0.001-0.005 ohm-cm
タイプ/ドーパント: P型/ボロン
表面/裏面: ポリッシュ/エッチング

Cat No.酸化膜厚枚数価格(¥)
G-45285nm1054,000
G-4690nm


3D単層グラフェン銅フォーム






3D単層グラフェン銅フォーム

 銅及びニッケル上にCVD成長した3Dグラフェンは優れた電気特性を持ち、高比表面・多孔質構造です。

厚さ: 1.2mm 密度: 320mg/cm2
細孔サイズ: 580um

APPRICATIONS
● 化学センシング ● 超コンデンサ
● 電池等エネルギー貯蔵

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-4738×38mm275,000
G-47L50×100mm185,000


3D多層グラフェンNiフォーム
↑ クリックすると画像が現れます。



3D多層グラフェンNiフォーム

厚さ: 1.2mm 密度: 320mg/cm2
細孔サイズ: 580um

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-4850×50mm160,000
G-48L50×100mm85,000


3D多層グラフェンフォーム(支柱無し)




3D多層グラフェンフォーム(支柱無し)

厚さ: 1.2mm 密度: 4mg/cm3
細孔サイズ: 580um
カーボン含有量: 99% (金属支柱無し)

Cat No.サイズ枚数価格(¥)
G-4950×50mm165,000






ボロンナイトライド <BN>



BN超微細パウダー
↑ クリックすると画像が拡大します。


BN微細パウダー

 BNパウダーは、電子工学・エネルギー貯蔵などへ有用なBN溶液の作製に使用されます。

純度: 98.0% 平均粒径: 5um
比表面積: 7.5m2/g

APPRICATIONS
● 高温安定性
● 高い化学的抵抗性複合材料
● 絶縁層

Cat No.容量価格(¥)
G-50100g29,000

BN超微細パウダー






BN超微細パウダー

純度: 99.0% 平均粒径: ~70nm (SSA測定)
比表面積: 20m2/g かさ密度: 0.30g/cm3
真密度: 2.25g/cm3

Cat No.容量価格(¥)
G-515g33,000

銅箔上多層h-BNフィルム




銅箔上多層h-BNフィルム

 h-BNは直接遷移(5.97 eV)の絶縁体です。非常に強い共有結合(sp2)により、グラフェンに近い機械的強度と熱伝導性があり、又グラフェン以上の化学的安定性があります。Air雰囲気下で1000℃まで安定 (グラフェンは600℃)。

BN被膜率: 90-95% (極少数の穴有り)
BNフィルム平均厚: 13nm
TEMにより品質確認済
銅箔サイズ: 50×25mm
銅箔フィルム厚: 20um

Cat No.価格(¥)
G-5371,000

銅箔上単層h-BNフィルム
↑ クリックすると画像が現れます。





銅箔上単層h-BNフィルム

BN被膜率: 90-95% (極少数の穴有り)
TEMにより品質確認済
銅箔サイズ: 50×25mm
銅箔フィルム厚: 20um

Cat No.価格(¥)
G-5471,000

BNフレーク in エタノール





BNフレーク in エタノール

 エタノールに分散させたナノスケールBN結晶。

フレークサイズ: 50-200nm 純度: >99%
フレーク厚: 1-5単分子層 溶液濃度: 5.4mg/L

Cat No.容量価格(¥)
G-55100ml40,000





グラフェンコーティング



導電性グラフェン分散液
↑ クリックすると画像が現れます。


導電性グラフェン分散液

 超高濃度ナノプレートレット分散液。グラフェンの分散は、紙・ガラス・プラスチックフィルム等ほとんどの基質に、高導電性マイクロフィルムを容易に形成することができます。室温で30分の乾燥時間。作製されたフィルムは滑らかで、紙のような構造です。

ナノプレートレット平均厚さ: 7nm
グラフェン含有量: 23wt%
溶液: N-Butyl acetate

APPRICATIONS
● ポリマーへの添加剤
● グラフェン基材複合材料
● 熱伝導性複合物
● インク/コーティング
● 放熱板 ● 電磁波シールド ● 薄膜電池
● 静電防止フィルム

Cat No.容量価格(¥)
G-56100ml40,000
G-56M200ml61,000


グラフェンコーティングアルミホイル
↑ クリックすると画像が現れます。


グラフェンコーティングアルミホイル

 グラフェンコーティングアルミホイルは、携帯電話・ノートパソコン・ハイブリッド車等リチウムイオン電池産業において陽極電子コレクタとして使用されます。グラフェンをコーティングしたアルミホイルは、電気抵抗率が飛躍的に減少します。製品は特許を受けた独自のバインダーを使用し、グラフェン片のロールツーロール技術により製造されます。50cm×2000mまでの特注サイズ作製が可能です。

アルミホイルサイズ: 23×21.5cm 16um(thick)
コーティンググラフェン厚さ: 3.5nm
グラフェンフレークサイズ: 5-10um
コーティングアルミホイル電気抵抗率: 4.5×10-6Ω.cm

Cat No.枚数価格(¥)
G-57533,000


純グラフェン in エタノール



純グラフェン in エタノール

 エタノールに分散させた純グラフェン単層フレーク。

濃度: 1mg/L カーボン含有率: 99.99%
超高純度: 界面活性剤/酸化物ゼロ
平均フレーク厚: 0.35nm (1単分子層)
平均粒径(側部): ~550nm (150-3000nm)

Cat No.容量価格(¥)
G-5850ml25,500



Site Menu

Copyright 2009 EM Japan Co.,LTD.