• グラフェン支持膜 , 表面機能化カーボングリッド

グラフェンTEMサポートフィルム

 レーシーカーボン(300mesh グリッド)又は孔開きシリコンナイトライド支持膜上の単層, 2層, 3-5層及び6-8層のグラフェンです。グラフェンはTEMグリッド全体に覆われています。若干の折り目や皺があるため、使用可能な領域は約75%になりますが、試料のために十分な領域となります。一般的なカーボン支持膜より薄く導電性のある支持膜は、グラフェン特有の性質により作製が可能となります。結晶質の支持膜ですが、信号形成への寄与は比較的小さいです。単層及び2層グラフェン支持膜は高分解能イメージング及びナノ粒子やコントラストの低い材料のイメージングに適しています。3-5層及び6-8層のグラフェン支持膜はより丈夫なため、その後のイメージングを可能にする実験的なプラットフォームとして直接使用することができます。
 グラフェンはCVDプロセスにより銅箔上に成長します。銅箔はエッチングによって除去され、グラフェンはTEMグリッドに移されます。本製品は納品と同時に使用できます。

グラフェンTEMサポートフィルム




レーシーカーボン支持膜上グラフェン

EELS of Graphene
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[ 仕様 ]
● シート抵抗(単層):600Ω/sq
● シート厚/透明性:
(単層) 0.35nm/96.4%
(2層) 0.7nm/92.7%
(3-5層) 1.0-1.7nm/90.4-85.8%
(6-8層) 2.1-2.8nm/83.2-78.5%
● フレーム/支持膜:300mesh Cu TEMグリッド上レーシーカーボン

FFT of HR-TEM

Graphene

Graphene


Cat No.グラフェン層枚数価格(¥)
G-1-10単層1062,000
G-1-2525138,000
G-2-102層1058,000
G-2-2525130,000
G-3-103-5層1058,000
G-3-2525130,000
G-6-106-8層1058,000
G-6-2525130,000





孔開きシリコンナイトライド支持膜上グラフェン

Graphene on Holey SiN Film

 孔開きシリコンナイトライド支持膜上の単層, 2層, 3-5層及び6-8層のグラフェンです。超高分解能イメージング又は超平坦実験的プラットフォームとして適しています。グラフェンの仕様は、上記レーシーカーボン支持膜上グラフェン欄に記載された内容と同じです。
● フレーム:φ3mm 200um厚 シリコンフレーム
● 孔開きSi3N4支持膜:
孔径2.5um, ピッチ4.5um
200nm厚 0.5×0.5mm window

Cat No.グラフェン層枚数価格(¥)
GN-1-10単層10112,000
GN-1-2525250,000
GN-2-102層10108,000
GN-2-2525238,000
GN-3-103-5層10108,000
GN-3-2525238,000
GN-6-106-8層10108,000
GN-6-2525238,000





支持膜上酸化グラフェン

graphene oxide support filml

graphene oxide support filml

 特許を受けた酸化プロセスにより作製されたグラフェンフィルムです。基本構造は上記グラフェンフィルムと同じですが、酸化により親水性フィルムとなるため、生命科学のアプリケーション及び研究により適します。使用可能領域は約70%になります。使われる加工プロセスの影響により、ランダムに散乱した径10-100nmの孔が若干見受けられますが、他には見られない上質な酸化グラフェンフィルムとなります。支持膜及びフレームは、前述のレーシーカーボン支持膜タイプ又は孔開きシリコンナイトライド支持膜タイプの2種類から選択できます。
[ 酸化グラフェンフィルム厚 ]
単層:0.8-1.2nm 2層:1-1.5nm (EELSにより測定)

Cat No.支持膜タイプグラフェン層枚数価格(¥)
GO-1-10レーシーカーボン単層1084,000
GO-1-2525182,000
GO-2-102層1084,000
GO-2-2525182,000
GNO-1-10孔開きシリコンナイトライド単層10125,000
GNO-1-2525250,000
GNO-2-102層10125,000
GNO-2-2525250,000





2000メッシュ Cu 上グラフェン

2000mesh上グラフェン

 フレームには、強度がある2×1mm スロットグリッドが使用されています。グラフェン・2000メッシュ Cu・グリッドの合計の厚みは108µmです。2000メッシュCu上グラフェン膜はグリッド一面を全て覆っています。使用可能領域はスロット部分内の約75%。超高分解能イメージングや実験プラットフォームに適しています。グラフェンの仕様は、上記レーシーカーボン支持膜上グラフェン欄に記載された内容と同じです。
● フレーム:φ3mm 1×2mm スロットグリッド
● 2000メッシュ Cu仕様:透過率 41%, 厚さ約4µm

Cat No.グラフェン層枚数価格(¥)
GC-1-10単層1084,000
GC-1-2525176,000
GC-2-102層1082,000
GC-2-2525174,000
GC-3-103-5層1082,000
GC-3-2525174,000
GC-6-106-8層1082,000
GC-6-2525174,000





C-SMART 表面機能化カーボングリッド

CSMART GRID

 C-SMARTグリッドは官能基化されたカーボンフィルムTEMグリッドです。電子顕微鏡の試料調整を簡素化。
 Cryo-EM・トモグラフィー・単一粒子分析・生物学的な電子顕微鏡のための理想的なグリッドです。

 APPLICATIONS
● 親水性表面 (グロー放電処理の必要がありません)
● タンパク質、抗体、ウイルス及び非特異、特異結合による他の生体分子
 アフィニティー (親和性)と選択性
● グリッド上での精製、免疫捕捉分析 ● グリッド上での希薄溶液濃縮
● 低コントラスト物質の検出 ● 単一粒子解析 ● Cryo EM
● トモグラフィー/クライオトモグラフィー ● EELS ● ナノマテリアル解析

CSMART GRID






親水性カーボングリッド

Hydrophilic TEM Carbon Grids

 無電荷、親水性カーボンフィルムグリッド。標準的な汎用解析グリッド。グロー放電処理の必要がありません。

→ナノグリッド各種

→バイオグリッド各種

Cat No.Typemesh材質枚数価格(¥)
SC01-011AA (10nm C)400Cu2579,000
SC01-011BB (3nm C on Holey C)
SCG1-011AC (10nm C)1062,000
SCG1-011BC (3nm C on Holey C)




リジン親水性カーボングリッド

Lysine TEM Carbon Grids

リジン残基等生体分子上の第1級アミノ基と共有結合する親水性カーボンフィルムTEMグリッドです。
アプリケーション:単一粒子解析、抗体捕捉。

→バイオグリッド各種

Cat No.Typemesh材質枚数価格(¥)
SC01-041AA (10nm C)400Cu2579,000
SC01-041BB (3nm C on Holey C)




プラス親水性カーボングリッド

Plus TEM Carbon Grids

正電荷、親水性カーボンフィルムTEMグリッド
アプリケーション:
負電荷表面を持つタンパク質
ウイルスその他生体分子

→ナノグリッド各種

→バイオグリッド各種

Cat No.Typemesh材質枚数価格(¥)
SC01-051AA (10nm C)400Cu2579,000
SC01-051BB (3nm C on Holey C)
SCG1-051AC (10nm C)1062,000
SCG1-051BC (3nm C on Holey C)




マイナス親水性カーボングリッド

Minus TEM Carbon Grids

負電荷、親水性カーボンフィルムTEMグリッド
アプリケーション:
正電荷表面を持つタンパク質
ウイルスその他生体分子

→ナノグリッド各種

→バイオグリッド各種

Cat No.Typemesh材質枚数価格(¥)
SC01-071AA (10nm C)400Cu2579,000
SC01-071BB (3nm C on Holey C)
SCG1-071AC (10nm C)1062,000
SCG1-071BC (3nm C on Holey C)



Protein A カーボングリッド

Protein A TEM Carbon Grids

 Protein A TEMグリッドは、グリッド表面上直接的な、ウイルス・タンパク質の免疫沈降、免疫グロブリンの精製及び小規模分離のための親和性プラットフォームです。構造生物学、wet-SEM、CryoEM、ウイルス診断学、単粒子解析等様々な分野でご使用頂けます。

→バイオグリッド各種

Cat No.Typemesh材質枚数価格(¥)
SC01-081AA (10nm C)400Cu1089,000
SC01-081BB (3nm C on Holey C)




C-SMART

C-SMART

 C-SMART Plus グリッド上30nm 金ナノ粒子(NIST SRM8012)(左図)と未処理グリッド(右図)の比較。グリッドは5分間溶液でインキュベーションし、その後洗浄処理。

 C-SMART Minusグリッド上にtrimethylammoniumethanethiol (TMAT)で固定した0.8nm 金ナノ粒子。
(FEI T12 Spiritで高倍率撮像)

C-SMART

C-SMART

 C-SMART Plus グリッド上30nm 金ナノ粒子(NIST SRM8012) グリッド全体の表面にわたり均一な堆積。倍率:5,600倍

 C-SMART Plus グリッド上10nm金ナノ粒子(NIST SRM8011) TEM画像




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