• 窒化シリコン膜 TEMウィンドウ

窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ
Silicon Nitride Membrane TEM Windows

TEMWindows

窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ <SiN Membrane TEM Windows>
5nm, 10nm, 20nm, 50nm, Micro Porous

● プラズマクリーニングが可能 : 窒化シリコンTEMウィンドウは、カーボングリッドと異なり強度にプラズマクリーニングが可能です。
● 均一性の向上 : フィールドからフィールドへの変動性が減少しました。
1000℃以上の耐熱性 : 高温で動的プロセスが観察される環境のTEMをサポートします。
● 化学的・機械的に非常に堅牢 : ほぼ全ての酸、アルカリ、有機溶媒に耐えることができ、コロイド、繊維、ナノ粒子、粉末、高分子及び線材料などの沈着、成長を直接支持膜上で観察、解析することができます。半導体産業に一般的なCVD、スパッター、電子ビーム或いは蒸着法などを適用できます。



Amorphous
Pure Silicon
Porous
Nanocrystalline
Silicon
Silicon
Dioxide
Silicon
Nitride
カーボン膜
<標準>
カーボン膜
<極薄>
非結晶
純シリコン膜
多孔ナノ結晶性
シリコン膜
二酸化
シリコン膜
窒化
シリコン膜
メンブレン厚5, 9, 15nm30nm20, 40nm5, 10
20, 50nm
20~50nm~10nm
画質優れる良好有効良好有効良好
プラズマ洗浄可能不可
元素分析
バックグラウンド
SiのみSi, OSi, NC, H
熱的安定性~600℃>1000℃~400℃
化学安定性強塩基を避ける良好優れる良好
高ビーム電流
耐性
優れる有効優れる
コンタミネーション
原因物質
なしカーボン
ナノスケール細孔なし有りなしなし
バックグラウンド
特色
なしナノ結晶なしなし

窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ

シリコンナイトライドTEMウィンドウ


Cat No.フレーム厚膜厚ウィンドウサイズグリッド径枚数価格(¥)
SN100-A05
Q00
100um5nm25×25um
Single Window
3mm955,000
SN100-A05
Q33A
50×50um (8)
50×100um (1)
9 Windows
SN100-A05
L-C
50×1500um (2)
2 Slots
SN100-A10
Q33
10nm100×100um (8)
100×350um (1)
9 Windows
48,000
SN100-A10
Q33B
250×250um (8)
250×500um (1)
9 Windows
SN100-A20
Q05
20nm500×500um
Single Window
43,000
SN100-A20
Q33
100×100um (8)
100×350um (1)
9 Windows
SN100-A50
Q10
50nm1000×1000um
Single Window
33,000
SN100-A50
Q01
100×100um
Single Window
SN100-A50
Q05
500×500um
Single Window
SN100-A50
Q33
100×100um (8)
100×350um (1)
9 Windows

微細孔窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ

<Microporous Silicon Nitride Membrane TEM Windows>

微細孔窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ

 500×500umウィンドウ内の20又は50nm厚の窒化シリコン膜に、2umの微細孔がパターン形成されています。微細孔ウィンドウは様々な薄膜(例:グラフェン)のマウントに使用できます。また、CryoEM及び高傾斜トモグラフィーに使用することができます。70°傾斜角では、斜角の付けられた薄い100umフレームは、どんな回転配向からのウィンドウ中心内領域(~50×50um)も使用することができます。
 膜厚20nmは、超薄カーボンコーティングタイプの選択が可能です。コーティングにより効率的な電荷散逸ができ、高分解能・高安定性の結像に適します。

シリコンナイトライドTEMウィンドウ

シリコンナイトライドTEMウィンドウ

シリコンナイトライドTEMウィンドウ


Cat No.フレーム厚膜厚ウィンドウサイズグリッド径枚数価格(¥)
SN100-A50
MP2Q05
100um50nm500×500um3mm1055,000
SN100-A20
MP2Q05
20nm

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